鎢銅合金能直接鍍金嗎?為什么很多熱沉、觸點(diǎn)、焊接電極還要在鎢銅表面再加一層金?如果要做,具體流程和控制點(diǎn)是什么?這篇文章把問題攤開講透。
一、先弄清材料:鎢銅合金有什么特性
鎢銅(W-Cu)是用鎢骨架滲銅制成的金屬?gòu)?fù)合材料,常見配比有 W70Cu30、W80Cu20、W85Cu15 等。它兼具高導(dǎo)熱、低熱膨脹、耐高溫、不易軟化等特點(diǎn),非常適合做半導(dǎo)體封裝熱沉、微波器件底板、點(diǎn)焊/電火花電極及高電流觸點(diǎn)。
但它的表面有兩點(diǎn)讓后續(xù)表面處理“犯難”:
雙相表面:既有鎢相又有銅相,化學(xué)反應(yīng)活性、極化行為不同;
孔隙與粗糙:滲透結(jié)構(gòu)帶來微孔與溝槽,清洗、活化、致密鍍覆都更考驗(yàn)工藝。
二、為什么要在鎢銅上鍍金
提升可焊性/可鍵合性:金層抗氧化,適合軟釬焊(如AuSn、SnAg)、金絲鍵合,焊點(diǎn)穩(wěn)定。
降低接觸電阻:金層導(dǎo)電性好、抗膜層污染,適合信號(hào)與電源觸點(diǎn)。
耐腐蝕與外觀:金層惰性強(qiáng),在潮濕、鹽霧、硫化環(huán)境下更穩(wěn);外觀一致性好,便于批量追溯。
防擴(kuò)散與穩(wěn)定性:配合鎳或其它阻擋層,減少銅向上擴(kuò)散,長(zhǎng)期使用顏色與性能更持久。
三、工藝難點(diǎn)一覽
附著力:鎢表面易形成致密氧化膜,銅相又容易被酸蝕選擇性溶解,導(dǎo)致界面不均勻。
鍍層致密度:孔隙多時(shí)易“掛液”“起泡”“針孔”。
厚度與應(yīng)力控制:金層太薄抗腐不夠,太厚成本高、應(yīng)力大;底層鎳過厚也可能影響熱阻和尺寸。
擴(kuò)散與變色:未做阻擋層或退火不當(dāng),銅上竄會(huì)讓金層發(fā)紅、發(fā)暗。
尺寸與邊緣效應(yīng):厚薄不均、邊角加厚、深槽漏鍍,都是量產(chǎn)里常見的“坑”。
四、常見的三條工藝路線
路線A:化學(xué)鎳(Ni-P)打底 → 置換/電鍍金
思路:用自催化的化學(xué)鎳先鋪一層致密金屬,把鎢/銅雙相“統(tǒng)一”成可電鍍的金屬底,再疊金層。
優(yōu)點(diǎn):覆蓋性強(qiáng)、對(duì)復(fù)雜結(jié)構(gòu)和微孔友好;附著力穩(wěn)定。
適用:熱沉、底板、細(xì)孔/臺(tái)階結(jié)構(gòu)件。
路線B:銅打底 → 鎳阻擋 → 金面層
思路:先做薄銅“閃鍍/打底”,提升導(dǎo)電與平整,再上鎳阻擋層,最后鍍金。
優(yōu)點(diǎn):電鍍效率高;對(duì)大批量觸點(diǎn)、連接件成本友好。
注意:銅層要薄而致密,避免后期擴(kuò)散;對(duì)前處理潔凈度要求更高。
路線C:PVD濺射/蒸鍍底層(金屬黏附層)→ 電/化學(xué)鍍金
思路:在超凈條件下先沉積一層極薄的黏附/阻擋層(如Ti、Cr、Ta、TiW等),再進(jìn)行金層沉積或電鍍加厚。
優(yōu)點(diǎn):界面干凈、附著力好,尺寸可控;適合高端微波/射頻器件。
成本:設(shè)備與潔凈度要求高,適合高附加值產(chǎn)品。
五、關(guān)鍵工序與控制要點(diǎn)
1. 前處理(決定成敗的一半)
脫脂去污:超聲+弱堿清洗,確保油污、指印、拋光膏完全去除。
微蝕/粗化:對(duì)銅相做溫和微蝕以活化;對(duì)鎢相避免強(qiáng)酸/強(qiáng)氧化“過腐蝕”。
活化與置換:依據(jù)路線選擇活化體系(如酸性活化、鈀活化等),保證整個(gè)表面電化學(xué)狀態(tài)一致。
干燥與轉(zhuǎn)槽:縮短空氣暴露時(shí)間,防止新生氧化膜。
2. 打底層
化學(xué)鎳(Ni-P 3–10 μm 常見):覆蓋均勻、孔隙封閉能力強(qiáng),是通用方案。
銅閃鍍(0.2–1 μm):只起“搭橋”作用,后續(xù)要盡快加阻擋層。
PVD黏附層(幾十到數(shù)百納米):為高可靠件準(zhǔn)備,后續(xù)便于電鍍?cè)龊瘛?/p>
3. 阻擋層(常用鎳)
作用:抑制Cu向上擴(kuò)散,穩(wěn)定顏色與焊接界面。
厚度建議:2–8 μm 視壽命與溫度而定;溫度越高、壽命越長(zhǎng),阻擋層宜適度加厚。
類型選擇:電鍍Ni、化學(xué)Ni-P/Ni-B均可;關(guān)注磷/硼含量對(duì)可焊性與硬度的影響。
4. 金層沉積
軟金/硬金:
軟金(純金)適合鍵合與高可靠焊接;
硬金(微量鈷/鎳共沉積)耐磨,用于觸點(diǎn)滑動(dòng)與插拔。
厚度區(qū)間:0.1–0.3 μm 做防護(hù)與可焊表面;0.5–1.5 μm 兼顧耐磨/低接觸電阻;>2 μm 多用于高端觸點(diǎn)或精密器件。
應(yīng)力與色澤:控制有機(jī)添加劑與電流密度,避免脆裂與色差。
5. 后處理與清洗
純水漂洗/烘干:避免鹽漬、水斑;復(fù)雜孔洞可用置換溶劑或真空干燥。
低溫回火(如 120–150℃ 短時(shí)):釋放內(nèi)應(yīng)力,需評(píng)估對(duì)鎳磷結(jié)構(gòu)與金層硬度的影響。
封存與包裝:惰性氣體/防硫包裝,避免長(zhǎng)途運(yùn)輸中硫化變色。
六、質(zhì)量控制怎么做
厚度與均勻性:XRF 抽測(cè)關(guān)鍵面、邊緣、孔內(nèi)位置;確認(rèn)Cpk滿足圖紙。
附著力:劃格/膠帶、剪切/拉伸、熱沖擊循環(huán)(如 ?40?85℃)綜合驗(yàn)證。
孔隙與致密度:硫化/酸霧加速試驗(yàn)、染色法觀察針孔。
可焊性/鍵合性:潤(rùn)濕角、展錫率、金絲球徑/頸裂評(píng)估;必要時(shí)做界面金屬間化合物(IMC)截面。
接觸電阻與耐磨:針對(duì)觸點(diǎn)件做插拔壽命、表面硬度與電阻漂移測(cè)試。
外觀:色差、流痕、燒焦、掛點(diǎn)印記按等級(jí)判定。
七、尺寸結(jié)構(gòu)與夾具細(xì)節(jié)
遮蔽與選擇性鍍:焊盤要金,裝夾面不要金,優(yōu)先考慮膠塞/金屬遮蔽或PVD局部沉積。
治具設(shè)計(jì):確保接電穩(wěn)定、避免咬邊;對(duì)于深槽、盲孔,考慮輔助陽極或定向噴流。
電流路徑:大尺寸熱沉易“邊厚中薄”,可分區(qū)供電或旋轉(zhuǎn)夾具改善均勻性。
八、應(yīng)用場(chǎng)景與推薦搭配
半導(dǎo)體熱沉/微波底板:Ni-P 5–8 μm + 軟金 0.2–0.5 μm,重視平面度與可焊性。
高電流觸點(diǎn)/繼電器:Ni 3–5 μm + 硬金 0.8–1.2 μm,關(guān)注耐磨與接觸電阻。
焊接/電火花電極:Ni 2–4 μm + 軟金 0.1–0.3 μm,兼顧導(dǎo)電與耐蝕。
精密連接器/同軸件:PVD黏附層 + Ni 2–3 μm + 金 0.5–1.0 μm,控制尺寸與高頻損耗。
九、成本與交期怎么把握
金耗:按面積×厚度×密度估算,盡量只在功能區(qū)域上金;能用 0.3 μm 就別上 1 μm。
批量方式:大件走掛鍍,小件可滾鍍或振鍍;形狀復(fù)雜時(shí)評(píng)估回收與二次返工成本。
前期打樣:一次把“合金牌號(hào)、粗糙度、遮蔽區(qū)域、厚度窗口、檢測(cè)方法”寫清,避免反復(fù)。
十、常見問題與對(duì)策
鍍層起泡/剝落:前處理不凈或活化過度;檢查清洗、縮短轉(zhuǎn)槽時(shí)間,優(yōu)化化學(xué)鎳前的表面狀態(tài)。
發(fā)紅/變色:銅擴(kuò)散或硫化污染;提高阻擋層質(zhì)量、使用防硫包裝,控制倉(cāng)儲(chǔ)環(huán)境。
厚度不均:治具與電流分布不良;加輔助陽極、調(diào)整極距與工件姿態(tài)。
焊接虛焊:金層過厚或鎳層脆化;校正厚度并核查回火/老化工藝。
針孔多:基體孔隙未封閉或氣體殘留;延長(zhǎng)化學(xué)鎳致密化,改進(jìn)脫氣與干燥。
十一、環(huán)保與安全提示
優(yōu)先選用低氨/低重金屬、無強(qiáng)烈揮發(fā)的清洗與活化體系;金鍍液可考慮低配合劑或無氰配方。
廢液與漂洗水按危廢處理,建立金屬回收機(jī)制;現(xiàn)場(chǎng)保持良好通風(fēng)與個(gè)人防護(hù)。
工藝變更前做小樣評(píng)估與風(fēng)險(xiǎn)清單,避免在量產(chǎn)中“邊跑邊改”。
鎢銅合金鍍金并不神秘,關(guān)鍵是把表面統(tǒng)一、把界面穩(wěn)住、把擴(kuò)散管住、把厚度控準(zhǔn)。只要前處理抓到位、底層與阻擋層搭配合理、金層厚度和應(yīng)力受控,再配合規(guī)范的檢測(cè)與包裝,鎢銅件就能在焊接、導(dǎo)電與耐蝕方面穩(wěn)定發(fā)揮,少返工、好量產(chǎn)。需要長(zhǎng)壽命、更高可靠性的場(chǎng)合,再引入PVD底層或加強(qiáng)阻擋,就能把“穩(wěn)定性這口氣”徹底提上來。
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